上海2GL3D打印設備 納糯三維科技供應

借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術還可以應用在微創手術的生物醫學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。把3D打印做大很難，做小同樣也不容易，這兩個方向都蘊含著大量的創新機會。上海2GL3D打印設備

Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調節范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。上海2PP3D打印無掩膜光刻由于材料利用率高，減少了廢料產生，使得制造過程更加環保和可持續。

總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。

來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結合軟光刻技術做后續復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心，共同合作研發了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米，可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內窺鏡可以幫助檢測人體動脈內的斑塊、血栓和膽固醇晶體，因此對于醫學檢測極其重要，可以有助于減少中風和心臟病發作的風險。高分辨率的3D打印技術可以生產出比傳統制造工藝更小、更精確的零件。

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。另外，Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。Nanoscribe的技術本質上是用一種微型激光來3D打印三維結構。上海2PP3D打印無掩膜光刻

Nanoscribe 的新型微加工3D打印機為生命科學制造復雜結構。上海2GL3D打印設備

光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不光可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。上海2GL3D打印設備